EUVL碎屑的工作原理

每年，制造商都会带出下一个出色的计算机芯片，从而提高计算能力并允许我们个人计算机比我们十年前的想象要多。英特尔创始人戈登·摩尔在35年前，他说，微处理器上的晶体管数量将每18个月翻一番，预测了这一技术现象。这被称为摩尔定律。

行业专家认为，Deep-ultraviolet光刻将在2004年和2005年左右达到其极限，这意味着，没有新的芯片制造技术，摩尔的法律也将结束。但是，一旦深脉络膜撞到了天花板，我们将看到芯片制造商转化为新的光刻过程，该过程将使他们能够在2007年到2007年生产该行业的第一个10 gigahertz（GHz）微处理器。相比之下，相比之下。2001年5月）为2.4 GHz。EUVL可以为摩尔定律增加10年。

“ EUV光刻使我们能够制作具有足够小以支持10 GHz时钟速度的功能尺寸的芯片。它不一定会实现它。” EUV光刻计划经理Don Sweeney劳伦斯·利弗莫尔国家实验室（llnl），说。“我们需要做的第一件事是使综合电路降低到30纳米，而EUV光刻显然会做到这一点。”相比之下，可以通过深脉冲光刻创建的最小电路是100纳米。

2001年4月，EUV有限责任公司（EUV LLC）揭示了第一台全尺度原型EUV光刻机器。EUV LLC是一个由世界一些领先的芯片制造商和三个美国能源研究部实验室组成的财团。成员包括Intel，AMD，IBM，Micron，Infeneon和Motorola。这些公司正在与虚拟国家实验室，由桑迪亚国家实验室，劳伦斯·利弗莫尔国家实验室和劳伦斯·伯克利国家实验室组成。成为该财团成员的优势是首先要使用这项新技术。

现在让我们看看EUVL的工作原理。